重庆创新平台面向全球发布业内领先硅光工艺

会议现场。联合微电子供图，华龙网－新重庆客户端发

5月28日－30日，第二届中欧国际硅光技术研讨会在重庆召开，今（30）日，研讨会上举办了联合微电子中心有限责任公司（CUMEC公司）“180nm成套硅光工艺PDK”发布会。重庆市各部门相关领导、中国电科科技部以及来自比利时、英国、国内多所大学、研究机构和企业的产学研界资深专家近300人参会，通过现场与线上相结合的形式，分享交流硅基光电子的技术优势和应用前景，并对硅光技术研发面临的机遇、挑战及发展方向进行全方位的讨论和展望。

CUMEC公司执行董事兼总经理韩建忠博士在现场致辞中表示，CUMEC公司2018年10月在重庆成立，次年9月就实现了8英寸硅基光电子技术工艺平台的通线，发展十分迅速。本次正式向全球发布“180nm成套硅光工艺PDK”，也标志着公司具备硅基光电子领域全流程自主工艺制造能力，开始向全球提供硅光芯片流片服务和EPDA设计服务。

欧洲硅光联盟主席、比利时根特大学教授、imec高级研究员Roel Baets从比利时发来线上致辞，他指出，硅基光电子技术作为一项新兴技术正在快速发展，产业化速度亦在不断加快，CUMEC公司发布180nm成套硅光工艺PDK令人振奋，这是硅光技术领域的一件大事。“我希望日后可以有机会来到美丽山城重庆，来到创新进取的CUMEC公司，希望可以借助这一平台，把更多的技术人才团结在一起，把更多的发展资源聚集在一起，促进硅光产业发展得更快更好。”他说。

随后，重庆市高新区管委会副主任林金朝发表致辞并指出，硅基光电子技术能够大大提高集成芯片的性能，是大数据、人工智能、未来移动通信等新兴产业的基础性支撑技术。近年来，高新区依托光电子和微电子器件及系统，国家创新基地在硅基光电子领域率先布局，设立了联合微电子中心，在科研基地、研发平台、人才团队、全流程封装工艺等方面加大投入，初步具备了人才聚集能力、重大创新任务承接能力、公共创新平台支撑能力和对外流片加工工艺能力，有助于完善重庆市集成电路产业链条，优化集成电路产业体系。

发布会上，中国驻比利时大使曹忠明、比利时驻中国大使Marc Vinck、中国工程院院士吴汉明等关心支持CUMEC公司建设发展和硅光PDK发布的领导、专家、合作伙伴纷纷发来祝福视频。

主办方表示，本次研讨会的举办，加强了中欧在硅光技术领域的学术交流与合作，也有助于进一步提高国内硅光技术的研究和应用水平。

记者 佘振芳